涉嫌侵犯武汉企业专利 日企被判赔5000余万元

武汉市知识产权局局长董宏伟15日表示，经过数年的宣传普及，当前武汉市企业知识产权保护意识逐渐增强。2008年，一家日资企业涉嫌侵犯武汉企业专利，被判赔5000余万元人民币。
　　1997年，日本富士化水在未征得武汉晶源公司专利授权情况下，擅自采用晶源公司“海水法”发明专利，改造其工艺设备，为其客户福建华阳电业设计烟气脱硫装置。电厂因此降低生产成本而新增发电利润每年高达数千万元。晶源公司与富士化水多次交涉未果，遂于2001年9月向福建省高级人民法院提起诉讼。
　　2008年5月21日，受福建省高级人民法院委托，武汉市中级人民法院在汉宣判：武汉晶源环境工程有限公司诉日本富士化水工业株式会社和华阳电业有限公司侵犯专利权案，晶源公司一审胜诉，判决被告日本富士化水停止侵权行为，赔偿晶源公司经济损失人民币5061.24万元，并责成华阳电业按专利实际使用年限，向晶源公司支付专利使用费。
　　一审判决后，双方均提出了上诉。11月10日，武汉晶源专利权案作为1号示范审理庭在最高人民法院开庭审理。法庭将择日对此案进行宣判。